ফিউজড সিলিকা কি?

ফিউজড সিলিকা, ফিউজড কোয়ার্টজ নামেও পরিচিত, একটি সিন্থেটিক হয়, সিলিকন ডাই অক্সাইডের নিরাকার রূপ (SiO2). এটি অত্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রায় উচ্চ-বিশুদ্ধতার সিলিকা বালি বা কোয়ার্টজ স্ফটিক গলিয়ে উত্পাদিত হয়. এই উপাদানটি তার ব্যতিক্রমী অপটিক্যাল এবং তাপীয় বৈশিষ্ট্যগুলির জন্য পরিচিত, এটি বিভিন্ন উচ্চ-কর্মক্ষমতা অ্যাপ্লিকেশনের জন্য আদর্শ করে তোলে.

সিলিকন ডাই অক্সাইড (SiO2) একটি সিলিকন পরমাণু এবং দুটি অক্সিজেন পরমাণুর সমন্বয়ে গঠিত একটি রাসায়নিক যৌগ. এটি সাধারণত প্রকৃতিতে কোয়ার্টজ এবং বিভিন্ন জীবন্ত প্রাণীর মধ্যে পাওয়া যায়. সিলিকন ডাই অক্সাইডের ন্যূনতম অমেধ্য সহ উচ্চ বিশুদ্ধতার স্তর রয়েছে, এটি বিভিন্ন শিল্পে একটি অপরিহার্য উপাদান তৈরি করে.

 

সিলিকন ডাই অক্সাইডের রাসায়নিক গঠন

সিলিকন ডাই অক্সাইড (SiO2):

• সূত্র: SiO2
• আণবিক ওজন: 60.08 g/mol
• রচনা: 1 অংশ সিলিকন (এবং), 2 অংশ অক্সিজেন (ও)
• চেহারা: স্বচ্ছ থেকে স্বচ্ছ কঠিন
• বিশুদ্ধতা: ন্যূনতম অমেধ্য সঙ্গে উচ্চ বিশুদ্ধতা

 

মূল বৈশিষ্ট্য

• উচ্চ গলনাঙ্ক: ~1710°C (3110°ফা)
• কঠোরতা: মোহস এর কঠোরতা 7
• রাসায়নিক স্থিতিশীলতা: বেশিরভাগ পরিস্থিতিতে রাসায়নিকভাবে জড়
• বৈদ্যুতিক বৈশিষ্ট্য: এর বিশুদ্ধ আকারে অন্তরক, কিন্তু অর্ধপরিবাহী হতে পরিবর্তিত হতে পারে

 

অ্যাপ্লিকেশন

• গ্লাস উত্পাদন: কাচের উৎপাদনে প্রাথমিক উপাদান.
• সেমিকন্ডাক্টর শিল্প: এর অন্তরক বৈশিষ্ট্যের কারণে ইলেকট্রনিক উপাদানগুলির উত্পাদনে ব্যবহৃত হয়.
• নির্মাণ: কংক্রিট ও সিমেন্টের কাঁচামাল হিসেবে ব্যবহৃত হয়.
• খাদ্য এবং ফার্মাসিউটিক্যাল: খাদ্য এবং ফার্মাসিউটিক্যালস একটি বিরোধী caking এজেন্ট হিসাবে ব্যবহৃত.

 

বিশুদ্ধতা বিবেচনা

উচ্চ বিশুদ্ধতা সিলিকন ডাই অক্সাইড ইলেকট্রনিক্স এবং অপটিক্সে অ্যাপ্লিকেশনের জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ, যেখানে অমেধ্য উল্লেখযোগ্যভাবে কর্মক্ষমতা প্রভাবিত করতে পারে. SiO2 পরিশোধন করার প্রক্রিয়ায় ধাতুর মতো দূষিত পদার্থ অপসারণ করা জড়িত, জৈব যৌগ, এবং অন্যান্য অ-সিলিকন উপাদান.

 

বৈশিষ্ট্য:

আপনার বর্ণনা করা বৈশিষ্ট্যের উপর ভিত্তি করে, মনে হচ্ছে আপনি বৈশিষ্ট্যের একটি অনন্য সমন্বয় সহ একটি উপাদান উল্লেখ করছেন. এই বৈশিষ্ট্যগুলির সাথে ফিট করে এমন একটি উপাদানের উদাহরণ এখানে:

ফিউজড সিলিকা (সিলিকন ডাই অক্সাইড, SiO2)

বৈশিষ্ট্য:

• স্বচ্ছতা:
  • চমৎকার অপটিক্যাল স্বচ্ছতা প্রদর্শন করে, বিশেষ করে অতিবেগুনী তে (UV) পরিসীমা: ফিউজড সিলিকা ইউভি বর্ণালীতে তার ব্যতিক্রমী স্বচ্ছতার জন্য পরিচিত, এটি UV অপটিক্স এবং ফটোলিথোগ্রাফির মতো অ্যাপ্লিকেশনের জন্য আদর্শ করে তোলে.
• তাপীয় স্থিতিশীলতা:
  • উল্লেখযোগ্য বিকৃতি বা ক্রিস্টালাইজেশন ছাড়াই 1000°C বা তার বেশি পর্যন্ত উচ্চ তাপমাত্রা সহ্য করে: ফিউজড সিলিকার একটি খুব উচ্চ গলনাঙ্ক আছে (~1650°C) এবং উন্নত তাপমাত্রায় এর গঠন এবং স্থিতিশীলতা বজায় রাখে, যা উচ্চ-তাপমাত্রার অ্যাপ্লিকেশনের জন্য অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ.
• নিম্ন তাপ সম্প্রসারণ:
  • তাপ সম্প্রসারণের একটি কম সহগ ধারণ করে, বিস্তৃত তাপমাত্রা পরিসরে মাত্রিক স্থায়িত্ব প্রয়োজন এমন অ্যাপ্লিকেশনের জন্য এটি উপযুক্ত করে তোলে: ফিউজড সিলিকার স্ট্যান্ডআউট বৈশিষ্ট্যগুলির মধ্যে একটি হল এর অত্যন্ত নিম্ন তাপীয় সম্প্রসারণ সহগ, যা বিভিন্ন তাপমাত্রা জুড়ে মাত্রিক স্থিতিশীলতা নিশ্চিত করে.
• বৈদ্যুতিক অন্তরক:
  • উচ্চ বৈদ্যুতিক নিরোধক বৈশিষ্ট্য প্রদর্শন করে, এটি বৈদ্যুতিক এবং অর্ধপরিবাহী শিল্পে দরকারী করে তোলে: ফিউজড সিলিকা একটি চমৎকার বৈদ্যুতিক নিরোধক, সাবস্ট্রেট এবং নিরোধক জন্য অর্ধপরিবাহী শিল্প ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত.
• রাসায়নিক জড়তা:
  • বেশিরভাগ অ্যাসিড প্রতিরোধী, ঘাঁটি, এবং অন্যান্য ক্ষয়কারী পদার্থ: ফিউজড সিলিকা রাসায়নিকভাবে নিষ্ক্রিয়, হাইড্রোফ্লোরিক অ্যাসিড ছাড়া বেশিরভাগ রাসায়নিকের আক্রমণ প্রতিরোধ করে, এটি কঠোর রাসায়নিক পরিবেশে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত করে তোলে.
• যান্ত্রিক শক্তি:
  • উচ্চ যান্ত্রিক শক্তি প্রদর্শন করে, এটি যান্ত্রিক চাপ এবং চাপ সহ্য করার অনুমতি দেয়: যদিও ফিউজড সিলিকা সবচেয়ে কঠিন উপাদান নয়, এটি যথেষ্ট যান্ত্রিক শক্তি এবং কঠোরতা প্রদান করে, বিভিন্ন অবস্থার অধীনে এটি টেকসই করা.

অ্যাপ্লিকেশন:

• অপটিক্স এবং ফটোনিক্স: UV পরিসরে এর উচ্চ স্বচ্ছতার কারণে, ফিউজড সিলিকা লেন্সে ব্যবহৃত হয়, আয়না, এবং অপটিক্যাল যন্ত্রের জন্য জানালা.
• সেমিকন্ডাক্টর: এর বৈদ্যুতিক অন্তরক বৈশিষ্ট্যগুলি এটিকে সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদনে এবং মাইক্রোইলেক্ট্রনিক ডিভাইসগুলির জন্য সাবস্ট্রেট হিসাবে ব্যবহারের জন্য উপযুক্ত করে তোলে.
• মহাকাশ এবং প্রতিরক্ষা: ফিউজড সিলিকার তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং নিম্ন তাপীয় প্রসারণ উচ্চ-তাপমাত্রার পরিবেশে নির্ভুল উপাদানগুলির জন্য আদর্শ করে তোলে.
• রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণ: এর রাসায়নিক জড়তা এটিকে আক্রমণাত্মক রাসায়নিকের সংস্পর্শে পরিবেশে ব্যবহার করার অনুমতি দেয়.

 

অ্যাপ্লিকেশন:

1. অপটিক্স:

• ব্যবহার:
  • লেন্স: ফিউজড সিলিকা লেন্সগুলি ইউভিতে নিযুক্ত করা হয়, দৃশ্যমান, এবং IR অ্যাপ্লিকেশনগুলি তাদের ব্যতিক্রমী স্বচ্ছতা এবং বিস্তৃত বর্ণালী পরিসর জুড়ে ন্যূনতম আলো শোষণের কারণে.
  • উইন্ডোজ: স্বচ্ছ ফিউজড সিলিকা উইন্ডোগুলি অপটিক্যাল যন্ত্রগুলিতে ব্যবহার করা হয় যাতে বিকৃতি ছাড়াই আলোর উত্তরণ হয়.
  • আয়না: উচ্চ-নির্ভুল অপটিক্যাল সিস্টেমে আয়নার জন্য সাবস্ট্রেট হিসাবে ব্যবহৃত হয়, টেলিস্কোপ এবং লেজার সিস্টেম সহ.

2. সেমিকন্ডাক্টর শিল্প:

• ব্যবহার:
  • সেমিকন্ডাক্টর উপাদান: ফিউজড সিলিকা একটি সাবস্ট্রেট উপাদান হিসাবে ব্যবহৃত হয় এবং এর চমৎকার বৈদ্যুতিক নিরোধক বৈশিষ্ট্যের কারণে সেমিকন্ডাক্টর ডিভাইস তৈরিতে ব্যবহৃত হয়।.
  • তাপীয় স্থিতিশীলতা: বিকৃতি ছাড়াই উচ্চ তাপমাত্রা সহ্য করার ক্ষমতা অর্ধপরিবাহী উত্পাদন প্রক্রিয়াগুলিতে অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ, যেমন রাসায়নিক বাষ্প জমা (সিভিডি) এবং প্লাজমা এচিং.

3. লেজার প্রযুক্তি:

• ব্যবহার:
  • লেজার গেইন মিডিয়া: ফিউজড সিলিকা সলিড-স্টেট লেজারগুলিতে লেজার-সক্রিয় আয়নগুলির জন্য হোস্ট উপাদান হিসাবে ব্যবহৃত হয়.
  • অপটিক্যাল ফাইবার: উচ্চ-বিশুদ্ধতা মিশ্রিত সিলিকা অপটিক্যাল ফাইবারের জন্য প্রাথমিক উপাদান, যা লেজার যোগাযোগ এবং সংক্রমণের জন্য অপরিহার্য.
  • লেজার উইন্ডোজ: উচ্চ অপটিক্যাল স্বচ্ছতা এবং তাপ প্রতিরোধের কারণে উচ্চ-শক্তি লেজার সিস্টেমে ব্যবহৃত হয়.

4. রাসায়নিক শিল্প:

• ব্যবহার:
  • ক্রুসিবল: ফিউজড সিলিকা ক্রুসিবলগুলি তাদের রাসায়নিক নিষ্ক্রিয়তার কারণে অত্যন্ত প্রতিক্রিয়াশীল বা বিশুদ্ধ পদার্থ গলতে এবং ধরে রাখতে ব্যবহৃত হয়.
  • প্রতিক্রিয়া জাহাজ: রাসায়নিক চুল্লিতে নিযুক্ত যেখানে ক্ষয় এবং উচ্চ তাপমাত্রার প্রতিরোধের প্রয়োজন হয়.

5. যথার্থ প্রকৌশল:

• ব্যবহার:
  • যথার্থ যন্ত্র: ফিউজড সিলিকা উচ্চমাত্রিক স্থিতিশীলতা এবং তাপীয় শক প্রতিরোধের জন্য প্রয়োজনীয় যন্ত্রগুলিতে ব্যবহৃত হয়, যেমন ইন্টারফেরোমিটার এবং উচ্চ-নির্ভুল পরিমাপ ডিভাইস.
  • সরঞ্জাম উপাদান: ফিউজড সিলিকা থেকে তৈরি উপাদানগুলি এমন অ্যাপ্লিকেশনগুলিতে ব্যবহৃত হয় যেখানে সঠিক পরিমাপ এবং স্থিতিশীলতা গুরুত্বপূর্ণ.

6. সৌর শিল্প:

• ব্যবহার:
  • সৌর কোষ: ফিউজড সিলিকা সৌর বিকিরণের স্বচ্ছতা এবং পরিবেশগত চাপ সহ্য করার ক্ষমতার কারণে সৌর কোষগুলির এনক্যাপসুলেশন এবং সুরক্ষায় ব্যবহৃত হয়.
  • সোলার প্যানেল: এটি সোলার প্যানেল তৈরিতে ব্যবহৃত হয়, কোষগুলিকে তাপীয় এবং রাসায়নিক অবক্ষয় থেকে রক্ষা করে তাদের দক্ষতা এবং দীর্ঘায়ুতে অবদান রাখে.

 

ফিউজড সিলিকার উত্পাদন প্রক্রিয়া:

1. কাঁচামাল প্রস্তুতি:

• নির্বাচন:
  • উচ্চ-বিশুদ্ধতার সিলিকা বালি বা প্রাকৃতিক কোয়ার্টজ স্ফটিক প্রাথমিক কাঁচামাল হিসাবে বেছে নেওয়া হয়.
  • চূড়ান্ত পণ্যের পছন্দসই বৈশিষ্ট্যগুলি নিশ্চিত করতে এই উপকরণগুলি তাদের উচ্চ সিলিকা সামগ্রী এবং ন্যূনতম অমেধ্যগুলির জন্য নির্বাচিত হয়.

2. গলে যাওয়া:

• গরম করা:
  • কাঁচামাল 1700 ডিগ্রি সেলসিয়াসের বেশি তাপমাত্রার শিকার হয়, সাধারণত নিম্নলিখিত পদ্ধতিগুলির মধ্যে একটি ব্যবহার করে:
    • বৈদ্যুতিক আর্ক হিটিং: একটি বৈদ্যুতিক আর্ক ফার্নেস সিলিকা গলানোর জন্য প্রয়োজনীয় উচ্চ তাপমাত্রা তৈরি করে.
    • রেজিস্ট্যান্স হিটিং: একটি প্রতিরোধ চুল্লি মধ্যে, বৈদ্যুতিক প্রতিরোধ সিলিকা গলানোর জন্য তাপ উৎপন্ন করতে ব্যবহৃত হয়.
  • শুদ্ধিকরণ:
    • গলে যাওয়ার প্রক্রিয়া চলাকালীন, কোন অবশিষ্ট অমেধ্য সাধারণত সরানো হয়, গলিত সিলিকার উচ্চ বিশুদ্ধতা নিশ্চিত করা.

3. গঠন:

• কৌশল:
  • গলিত সিলিকাকে বিভিন্ন কৌশলের মাধ্যমে পছন্দসই আকারে আকৃতি দেওয়া হয়, সহ:
    • কাস্টিং: নির্দিষ্ট আকার এবং আকার তৈরি করতে ছাঁচে গলিত সিলিকা ঢালা.
    • টিপে: সুনির্দিষ্ট মাত্রা এবং আকার অর্জনের জন্য ছাঁচে গলিত সিলিকায় চাপ প্রয়োগ করা.
    • ছাঁচনির্মাণ: গলিত সিলিকা থেকে জটিল আকার এবং কাঠামো তৈরি করতে ছাঁচ ব্যবহার করা.

4. অ্যানিলিং:

• কুলিং:
  • আকৃতির সিলিকাকে ধীরে ধীরে নিয়ন্ত্রিত পদ্ধতিতে ঠাণ্ডা করা হয় যাতে গঠন প্রক্রিয়ার সময় বিকশিত হতে পারে এমন অভ্যন্তরীণ চাপ উপশম করা হয়।.
  • অ্যানিলিং ওভেন:
    • গঠিত সিলিকা টুকরা annealing চুলা মধ্যে স্থাপন করা হয়, যেখানে তাপমাত্রা একটি বর্ধিত সময়ের মধ্যে ধীরে ধীরে হ্রাস করা হয়.
  • সম্পত্তির উন্নতি:
    • এই ধীর শীতল প্রক্রিয়া ফিউজড সিলিকার যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য বাড়ায়, এর শক্তি এবং স্থায়িত্ব উন্নত করা.

 

সারাংশ:

ফিউজড সিলিকার উত্পাদন প্রক্রিয়ার মধ্যে উচ্চ-বিশুদ্ধতার কাঁচামালের যত্নশীল নির্বাচন জড়িত, সুনির্দিষ্ট গলে যাওয়া এবং গঠনের কৌশল, এবং ব্যতিক্রমী অপটিক্যাল সঙ্গে একটি উপাদান উত্পাদন নিয়ন্ত্রিত annealing, তাপ, বৈদ্যুতিক, এবং যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য. এই প্রক্রিয়াটি অপটিক্সে বিভিন্ন উন্নত অ্যাপ্লিকেশনের জন্য ফিউজড সিলিকার উচ্চ গুণমান এবং নির্ভরযোগ্যতা নিশ্চিত করে, সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন, লেজার প্রযুক্তি, রাসায়নিক শিল্প, যথার্থ প্রকৌশল, এবং সৌর শিল্প.

 

ফিউজড সিলিকার রূপ:

1. ফিউজড সিলিকা গ্লাস:

• বর্ণনা:
  • বিশুদ্ধ সিলিকা গলে এবং শক্ত করে উত্পাদিত স্বচ্ছ সিলিকা গ্লাস (SiO2).
• বৈশিষ্ট্য:
  • UV জুড়ে উচ্চ অপটিক্যাল স্বচ্ছতা এবং স্বচ্ছতা, দৃশ্যমান, এবং IR তরঙ্গদৈর্ঘ্য.
  • চমৎকার তাপীয় স্থিতিশীলতা এবং কম তাপীয় সম্প্রসারণ.
  • উচ্চ রাসায়নিক জড়তা এবং বৈদ্যুতিক নিরোধক বৈশিষ্ট্য.
• অ্যাপ্লিকেশন:
  • উচ্চ নির্ভুলতা অপটিক্স ব্যবহৃত, ইউভি এবং আইআর উইন্ডোজ, লেন্স, আয়না, এবং সেমিকন্ডাক্টর উত্পাদন.

2. কোয়ার্টজ গ্লাস:

• বর্ণনা:
  • উচ্চ কোয়ার্টজ কন্টেন্ট সহ সিলিকা গ্লাস বোঝায়, সাধারণত এর চেয়ে বেশি 99.9% SiO2.
• বৈশিষ্ট্য:
  • ফিউজড সিলিকার মতো কিন্তু প্রায়শই উচ্চতর বিশুদ্ধতার মাত্রা সহ, সামান্য ভিন্ন অপটিক্যাল এবং তাপ বৈশিষ্ট্য নেতৃস্থানীয়.
  • তাপীয় শক এবং উচ্চ তাপমাত্রার ব্যতিক্রমী প্রতিরোধ.
  • উচ্চ রাসায়নিক বিশুদ্ধতা, এটি ল্যাবরেটরি এবং শিল্প অ্যাপ্লিকেশনের জন্য আদর্শ করে তোলে.
• অ্যাপ্লিকেশন:
  • উচ্চ-বিশুদ্ধতা রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণে নিযুক্ত, উচ্চ-তাপমাত্রা পরীক্ষাগার সরঞ্জাম, এবং বিশেষ অপটিক্যাল উপাদান.

3. ডোপড ফিউজড সিলিকা:

• বর্ণনা:
  • ফিউজড সিলিকা যা এর অপটিক্যাল পরিবর্তন করার জন্য নির্দিষ্ট ডোপ্যান্টের সাথে পরিবর্তন করা হয়েছে, তাপ, বা বিশেষ অ্যাপ্লিকেশনের জন্য যান্ত্রিক বৈশিষ্ট্য.
• বৈশিষ্ট্য:
  • অপটিক্যাল ডোপিং: ফ্লোরিন বা বোরনের মতো ডোপ্যান্টগুলি প্রতিসরাঙ্ক সূচক পরিবর্তন করতে বা UV ট্রান্সমিশন বাড়াতে যোগ করা যেতে পারে.
  • থার্মাল ডোপিং: টাইটানিয়াম বা অ্যালুমিনিয়ামের মতো সংযোজনগুলি তাপীয় স্থিতিশীলতা উন্নত করতে পারে এবং তাপীয় প্রসারণ কমাতে পারে.
  • যান্ত্রিক ডোপিং: সেরিয়ামের মতো উপাদানগুলির অন্তর্ভুক্তি বিকিরণ প্রতিরোধ ক্ষমতা বা যান্ত্রিক শক্তি বাড়াতে পারে.
• অ্যাপ্লিকেশন:
  • কাস্টমাইজড অপটিক্যাল ফাইবার ব্যবহার করা হয়, লেজার উপাদান, বিকিরণ-প্রতিরোধী উপকরণ, এবং নির্ভুল প্রকৌশল অ্যাপ্লিকেশন যেখানে উপযুক্ত বৈশিষ্ট্য প্রয়োজন.

 

ফিউজড সিলিকার পরিবেশগত প্রভাব এবং ভবিষ্যতের প্রবণতা:

পরিবেশগত প্রভাব:

• পরিবেশগতভাবে সৌম্য:
  • ফিউজড সিলিকাকে পরিবেশগতভাবে সৌম্য বলে মনে করা হয়, কারণ এটি উত্পাদনের সময় ক্ষতিকারক রাসায়নিক বা দূষক মুক্ত করে না, ব্যবহার, বা নিষ্পত্তি. এর জড় প্রকৃতির মানে এটি পরিবেশগত উপাদানগুলির সাথে প্রতিক্রিয়া করে না, এটি বিভিন্ন অ্যাপ্লিকেশনের জন্য নিরাপদ করে তোলে.
• সীমিত পুনর্ব্যবহারযোগ্য উদ্যোগ:
  • ফিউজড সিলিকার রিসাইক্লিং এর অনেক অ্যাপ্লিকেশনের জন্য কঠোর বিশুদ্ধতার প্রয়োজনীয়তার কারণে সীমিত. ব্যবহৃত ফিউজড সিলিকার পরিশোধন এবং পুনঃপ্রক্রিয়াকরণের সাথে যুক্ত উচ্চ খরচ প্রায়ই সুবিধার চেয়ে বেশি, ন্যূনতম পুনর্ব্যবহারযোগ্য প্রচেষ্টার দিকে পরিচালিত করে.

ভবিষ্যতের প্রবণতা:

• উন্নত বৈশিষ্ট্য:
  • গবেষণা ও উন্নয়ন: চলমান আর&ডি প্রচেষ্টার লক্ষ্য হল অপটিক্যাল স্বচ্ছতা আরও উন্নত করা, যান্ত্রিক শক্তি, এবং ফিউজড সিলিকার তাপীয় স্থিতিশীলতা. বস্তুগত বিজ্ঞান এবং প্রকৌশল কৌশলগুলিতে উদ্ভাবনগুলি উচ্চ-কর্মক্ষমতা অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উচ্চতর ফিউজড সিলিকা বৈকল্পিক তৈরি করবে বলে আশা করা হচ্ছে.
• উদীয়মান অ্যাপ্লিকেশন:
  • কোয়ান্টাম প্রযুক্তি: কোয়ান্টাম কম্পিউটিং এবং যোগাযোগ ব্যবস্থায় ব্যবহারের জন্য ফিউজড সিলিকা অন্বেষণ করা হচ্ছে, যেখানে এর উচ্চ বিশুদ্ধতা এবং ব্যতিক্রমী অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্য কোয়ান্টাম তথ্যের ম্যানিপুলেশন এবং সংক্রমণকে সহজতর করতে পারে.
  • ফটোভোলটাইক্স: সৌর প্রযুক্তিতে ক্রমাগত অগ্রগতি ফটোভোলটাইক কোষ এবং প্যানেলে ফিউজড সিলিকার ব্যবহার চালাচ্ছে, সৌর শক্তি সিস্টেমের দক্ষতা এবং স্থায়িত্ব উন্নত করার জন্য এর স্বচ্ছতা এবং তাপীয় স্থিতিশীলতা ব্যবহার করা.